半導體晶圓生產過程會產生各種缺陷,所以在制程中設有多道缺陷檢測(inspection),因而獲得大量的數(shù)據(jù),包括圖片。高效精準的分析及缺陷溯源對良率提升具有重要意義。
廣立微DataExp-DMS (簡稱DE-DMS)是缺陷數(shù)據(jù)管理與分析的解決方案,系統(tǒng)收集檢測機臺的缺陷數(shù)據(jù)及圖片,針對這些數(shù)據(jù)進行快速分析、分類,并結合DE-YMS 良率分析系統(tǒng)查找缺陷形成的根因。目前DE-DMS系統(tǒng)已在國內晶圓大廠部署、驗證,獲得客戶認可。